激光與光電子學(xué)進(jìn)展
國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng):Laser Optoelectronics Progress
Laser & Optoelectronics Progress是由Universitat zu Koln出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)學(xué)術(shù)期刊,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)(ISSN:1006-4125),出版周期24 issues/year,其出版地區(qū)設(shè)在PEOPLES R CHINA。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專(zhuān)業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開(kāi)展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.5,開(kāi)源內(nèi)容占比0,出版撤稿占比,OA被引用占比0,讀者群體主要包括物理與天體物理的專(zhuān)業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛(ài)好者,這些讀者群體來(lái)自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Laser & Optoelectronics Progress已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動(dòng)ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。
學(xué)科類(lèi)別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類(lèi):Engineering 小類(lèi):Electrical and Electronic Engineering | Q3 | 564 / 797 |
29% |
大類(lèi):Engineering 小類(lèi):Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q4 | 171 / 224 |
23% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估,打破了過(guò)去僅依賴(lài)單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開(kāi)放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。
大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | ESCI | Q4 | 294 / 352 |
16.6% |
學(xué)科:OPTICS | ESCI | Q4 | 102 / 119 |
14.7% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | ESCI | Q4 | 302 / 354 |
14.83% |
學(xué)科:OPTICS | ESCI | Q4 | 107 / 120 |
11.25% |
JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱(chēng)為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù),按照期刊的影響因子進(jìn)行排序,按照類(lèi)似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱(chēng)分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個(gè)區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科,每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
年份 | 年發(fā)文量 |
2014 | 0 |
2015 | 0 |
2016 | 0 |
2017 | 0 |
2018 | 0 |
2019 | 0 |
2020 | 925 |
2021 | 1034 |
2022 | 1037 |
2023 | 1004 |
輻射探測(cè)技術(shù)與方法
中科院分區(qū):4區(qū)
激光與光電子學(xué)進(jìn)展
中科院分區(qū):4區(qū)
Chinese Journal Of Lasers-zhongguo Jiguang
中科院分區(qū):4區(qū)
天體動(dòng)力學(xué)
中科院分區(qū):1區(qū)
中國(guó)科學(xué):物理學(xué) 力學(xué) 天文學(xué)
中科院分區(qū):4區(qū)