高功率激光科學(xué)與工程
國際簡稱：HIGH POWER LASER SCI
High Power Laser Science And Engineering
SCIE
按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
- ISSN：2095-4719
- 創(chuàng)刊時(shí)間：2013
- 是否預(yù)警：否
- E-ISSN：2052-3289
- 出版地區(qū)：United Kingdom
- 是否OA：開放
- 出版語言：English
- 出版周期：12 issues/year
- 影響因子：5.2
- 出版商：Cambridge University Press
- 審稿周期： 21 Weeks
- CiteScore：7.1
- H-index：15
- 出版國人文章占比：0.37
- 開源占比：0.9804
- 文章自引率：0.0416...
High Power Laser Science And Engineering雜志簡介
High Power Laser Science And Engineering是由Cambridge University Press出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自2013年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：2095-4719，E-ISSN：2052-3289），出版周期12 issues/year，其出版地區(qū)設(shè)在United Kingdom。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及OPTICS學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.0416...，開源內(nèi)容占比0.9804，出版撤稿占比0，OA被引用占比1，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。High Power Laser Science And Engineering已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)OPTICS領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。
CiteScore（2024年最新版）
- CiteScore：7.1
- SJR：1.125
- SNIP：1.933
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Energy 小類：Nuclear Energy and Engineering | Q1 | 9 / 77 |
88% |
| 大類：Energy 小類：Nuclear and High Energy Physics | Q1 | 13 / 87 |
85% |
| 大類：Energy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q1 | 62 / 284 |
78% |
| 大類：Energy 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q1 | 51 / 224 |
77% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。
CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比
High Power Laser Science And Engineering中科院分區(qū)表
中科院分區(qū) 2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 1區(qū) | 是 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖
WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q1 | 18 / 119 |
85.3% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q1 | 16 / 120 |
87.08% |
JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
歷年發(fā)文數(shù)據(jù)
| 年份 | 年發(fā)文量 |
| 2014 | 0 |
| 2015 | 0 |
| 2016 | 0 |
| 2017 | 31 |
| 2018 | 66 |
| 2019 | 64 |
| 2020 | 43 |
| 2021 | 64 |
| 2022 | 44 |
| 2023 | 97 |
期刊互引關(guān)系
| 被他刊引用情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| HIGH POWER LASER SCI | 83 |
| OPT EXPRESS | 39 |
| PLASMA PHYS CONTR F | 27 |
| PHYS PLASMAS | 24 |
| SCI REP-UK | 20 |
| OPT LETT | 19 |
| APPL OPTICS | 17 |
| MATTER RADIAT EXTREM | 12 |
| PHYS REV D | 12 |
| PHYS REV LETT | 12 |
| 引用他刊情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| OPT LETT | 231 |
| PHYS REV LETT | 215 |
| OPT EXPRESS | 193 |
| PHYS PLASMAS | 154 |
| HIGH POWER LASER SCI | 83 |
| APPL OPTICS | 74 |
| REV SCI INSTRUM | 56 |
| PHYS REV E | 53 |
| APPL PHYS LETT | 51 |
| J OPT SOC AM B | 50 |
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